"Nový" výrobní proces čipů o jemnosti až 13,5 nm
Společnosti TSMC a ASML na konferenci 2015 SPIE (mezinárodní společnost fotoniky a optiky) oznámily překročení dlouho nepřekročitelného milníku v sériové výrobě waferů pomocí EUV (extreme ultra violet) litografie. Společnosti ve vzájemné spolupráci dokázaly na lince NXE:3300B (podporuje výrobu čipů výrobní technologií s jemností až 13,5 nm) v jednom jediném dni zpracovat 1000 waferů s trvalou spotřebou el. energie pouze 90 Watt. Dosažení těchto výsledků je důvod k radosti hned ze dvou důvodů. Tím prvním bylo dosažení tak nízké spotřeby el. energie, zatímco maximální hranice 100W je ještě všeobecně považována za ekonomicky únosnou pro komerční produkci (o splnění těchto požadavků se na poli výzkumu bojuje již od roku 2004). A tím druhým je samozřejmě světové prvenství, které je na současném trhu nedocenitelnou výhodou nad konkurencí. A ačkoliv je TSMC potěšeno svým úspěchem, otevřeně plánuje vstup do éry čipů vytvořených 10nm výrobním procesem, který odhaduje na rok 2019 nebo 2020.
*Křemíkový ingot (1), zpracovaný wafer (2) *
Propagační video o výrobě EUV ve akuu od společnosti ASML
Něco o TSMC a ASML
TSMC je největší specializovaný nezávislý výrobce tzv. waferů (polovodičový disk o tloušťce několika milimetrů, vyřezaný nejčastěji z křemíkových ingotů), ze kterých se posléze vyleptávají a laserově vyřezávají jádra procesorů, mikrokontrolerů a všemožných čipů. TSMC (Taiwan Semiconductor Manufacturing Company) bylo založeno v roce 1987 s jedinou fabrikou na výrobu waferů, nyní má 15 fabrik po celém světě a roční výdělek činní 20,11 miliard dolarů ročně. TSMC vyrábí wafery např. pro Qualcomm, Altera, Broadcom, Marvell, NVIDIA. V Čechách se výrobou waferů zabývá například společnost ON Semiconductor se sídlem v Rožnově pod Radhoštěm.
Ukázka zaostřování EUV paprsku (1), náhled do nitra výrobní linky NXE:3300B (2)
ASML je holandská společnost, zabývající se výrobou Fotolitografických systémů určených pro polovodičový průmysl, na světovém trhu ovládá 67% celkového prodeje těchto systémů.
Zdroje obrázků použitých v článku:
miniatura a (2): mxpv.com
(1): galeryhip.com
(3): computer.howstuffworks.com
(4): betasight.com
